Evolution of oxide disruptions

The (W)hole story about poly-Si / c-Si passivating contacts

verfasst von
Dominic Tetzlaff, Jan Krugener, Yevgeniya Larionova, Sina Reiter, Mircea Turcu, Robby Peibst, Uwe Hohne, Jan Dirk Kahler, Tobias Wietler
Abstract

Different models exist describing the current transport in polycrystalline Si/SiO x /crystalline Si junctions. Besides tunneling through thin oxides, transport through pinholes is discussed. We investigate the influence of annealing temperature on the structural properties of polycrystalline Si/SiO x /crystalline Si interfaces and analyze the formation and evolution of holes by high resolution transmission electron microscopy in comparison to electrical results. We prove the existence of pinholes in samples with good electrical properties in agreement with the pinhole model.

Organisationseinheit(en)
Institut für Materialien und Bauelemente der Elektronik
Laboratorium für Nano- und Quantenengineering
Externe Organisation(en)
Institut für Solarenergieforschung GmbH (ISFH)
Centrotherm
Typ
Aufsatz in Konferenzband
Seiten
963-965
Anzahl der Seiten
3
Publikationsdatum
2017
Publikationsstatus
Veröffentlicht
Peer-reviewed
Ja
ASJC Scopus Sachgebiete
Erneuerbare Energien, Nachhaltigkeit und Umwelt, Elektrotechnik und Elektronik, Elektronische, optische und magnetische Materialien
Ziele für nachhaltige Entwicklung
SDG 7 – Erschwingliche und saubere Energie
Elektronische Version(en)
https://doi.org/10.1109/pvsc.2017.8366522 (Zugang: Geschlossen)